一、保护期限

集成电路布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。

二、保护方式

我国对集成电路布图设计的保护采用了专门立法保护模式，制定了《集成电路布图设计保护条例》及相关规定，建立了专门的登记和审查制度。

权利人需要向国家知识产权局提出申请，并提交相关材料。经过初步审查后，若未发现驳回理由，则由国家知识产权局予以登记并颁发登记证书。集成电路布图设计权自申请日起生效。

三、所需材料

1.身份证明材料

公司申请：需提供盖章的营业执照副本复印件。

个人申请：需提供身份证正反面复印件。

2.申请表：填写并提交集成电路布图设计登记申请表。

3.布图设计图样：提供集成电路布图设计的复制件或者图样，并附上简要说明。若布图设计在申请日之前已投入商业利用，还需提交含有该布图设计的集成电路样品。

4.其他可能需要的材料：如申请人委托代理机构进行申请，还需提交集成电路布图设计登记代理委托书。包含该布图设计图样电子件的光盘等电子材料（具体根据申请要求而定）。